http://interheat.com/english/ Witryna国際会議「AM-FPD’21」. AM-FPD’20-Best Paper Award. （最優秀論文賞）. 対象：日新電機（株）、日新イオン機器（株）. 10月. （一社）日本電機工業会. 第70回電機工業技術功績者表彰. 「再エネ比率向上、CO 2 排出量削減に寄与する自己託送機能の開発」. …

イオン注入装置(2024年4月1日） common.特集 特集 - SEMI-NET

Witryna4 lut 2024 · 2009年に発売したIMPHEATは、高温加熱したSiC 基板に注入する中電流イオン注入装置である。 ₂．₂ 半導体用イオン注入装置の歴史と技術の推移 ₂．₂．₁ 中電流NH-20シリーズ （2） 図₃はシングルプラテン型エンドステーションを 搭載した中電流装置：NH-20SRである。 イオン源=分 析マグネット=加速管=Qレンズ=X-Yビーム … Witryna2024/06/18ニュース. 日新イオン機器株式会社が開発したパワー半導体製造用高温イオン注入装置「IMPHEAT-Ⅱ」が、このたび、電子デバイス産業新聞主催の「第27回 半 … eacts mcs summit

半導体製造用イオン注入装置 製品・サービス 日新電機株式会社

Witryna16 gru 2024 · beam current increases 2 times from that of IMPHEAT ®. As shown in Fig. 3, improvements to cathode and the AlN Fig. 1 A photo of IMPHEAT®-II Fig. 2 The basic conguration of IMPHEAT ®, IMPHEAT -II has the same conguration of ®IMPHEAT Fig. 3 The marathon life test result of current IMPHEAT®-II and an old version IMPHEAT ® … Witryna〒101-0032 東京都千代田岩本町1-10-5 TMMビル3階 TEL：03-5835-5896 FAX：03-5835-5497 Eメール： [email protected] WitrynaArticle “Global Expansion of Ion Implanter for SiC Power Devices “IMPHEAT”” Detailed information of the J-GLOBAL is a service based on the concept of Linking, Expanding, and Sparking, linking science and technology information which hitherto stood alone to support the generation of ideas. By linking the information entered, we provide … c sharp input